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電池電極應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)，采用多光束光學(xué)傳感器系統(tǒng)（kSA MOS）原位實(shí)時(shí)應(yīng)力測(cè)量分析，可研究鋰離子電池反應(yīng)動(dòng)力學(xué)過(guò)程中或在正常使用過(guò)程中內(nèi)部會(huì)產(chǎn)生應(yīng)力，對(duì)其電化學(xué)性能的影響；即就是在充放電過(guò)程中鋰離子電池外殼表面的應(yīng)力變化,得到了充放電循環(huán)中鋰離子電池電極表面的應(yīng)力大小與電荷狀態(tài)的關(guān)系；進(jìn)而分析充放電過(guò)程中應(yīng)力變化的異同,即產(chǎn)生不可逆應(yīng)力,充放電曲線(xiàn)不重合。

kSA XRF 在線(xiàn)X射線(xiàn)熒光膜厚測(cè)試設(shè)備可以在線(xiàn)測(cè)量許多不同材料基底（例如：玻璃和太陽(yáng)能電池組件）上的薄膜厚度。

這是一種用于測(cè)量光譜絕對(duì)反射率，L*a*b*成色值和生長(zhǎng)速率的非接觸式測(cè)量設(shè)備。kSA SpectR 光譜反射率測(cè)試設(shè)備具有多種在線(xiàn)監(jiān)控和過(guò)程控制的應(yīng)用功能，包括垂直腔表面發(fā)射激光器（VCSEL），分布式布拉格反射器（DBR）和其他一些復(fù)雜的設(shè)備結(jié)構(gòu)。該設(shè)備主要應(yīng)用于監(jiān)控測(cè)量sputtering，MBE和MOCVD等薄膜生產(chǎn)研究。

薄膜應(yīng)力測(cè)試系統(tǒng)，又名薄膜應(yīng)力計(jì)或薄膜應(yīng)力測(cè)量系統(tǒng)！采用非接觸MOS激光技術(shù)；不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析；并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描，從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響；同時(shí)提高了測(cè)試的分辨率；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析；

薄膜/涂層殘余應(yīng)力儀（kSA MOS Coating Stress tester）采用非接觸MOS激光技術(shù)；不但可以對(duì)樣品表面應(yīng)力分布進(jìn)行統(tǒng)計(jì)分析，而且還可以進(jìn)行樣品表面二維應(yīng)力、曲率成像分析；并且這種設(shè)計(jì)始終保證所有陣列的激光光點(diǎn)始終在同一頻率運(yùn)動(dòng)或掃描，從而有效的避免了外界振動(dòng)對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響；同時(shí)提高了測(cè)試的分辨率；適合各種材質(zhì)和厚度薄膜應(yīng)力分析；